CVD和ALD薄膜沉積技術應用領域
CVD和ALD薄膜沉積技術應用領域 顯示 用於OLED、QD-OLED、甚至未來QLED的薄膜封裝，通過有機/無機疊層結構的保護，水汽滲透率WVTR可降至10-5g/m2/day，保證OLED或者量子點發光材料的穩定。另外量子點光學膜QDEF也需要WVTR小於0.1的阻隔膜，保護量子點不受水氧 ...
原文：ALD和CVD晶體管薄膜技術
ALD和CVD晶體管薄膜技術 現代微處理器內的晶體管非常微小，晶體管中的一些關鍵薄膜層甚至只有幾個原子的厚度，光是英文句點的大小就夠容納一百萬個晶體管還綽綽有余。ALD是使這些極細微結構越來越普遍的一種技術。 ALD 工藝直接在芯片表面堆積材料，一次沉積單層薄膜幾分之一的厚度，以盡可能生成最薄 最均勻的薄膜。工藝的自限特性以及共形沉積的相關能力，是其成為微縮與 D 技術推動因素的基礎。自限式表面反 ...
2021-05-16 08:29 0 1854 推薦指數：
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