原文:【整理中】IC 失效機理(CMOS工藝)

IC 四種常見失效機理如下: EM electron migration,電子遷移TDDB time dependent dielectric breakdown,與時間相關電介質擊穿 經時擊穿NBTI negative bias temperature instability,負偏置溫度不穩定性HCI hot carrier injection,熱載流子注入其中,EM 和 TDDB 會導致隨機的 ...

2020-02-05 11:53 0 1778 推薦指數:

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整理】半導體理論及IC工藝

一、PVT (Process Voltage Temperature) 電壓、溫度 和 工藝情況等條件組合,形成 PVT(Process、Voltage、Temperature)條件,用於性能分析(時序分析)。 Voltage & Temperature ...

Wed May 20 20:09:00 CST 2020 0 852
校招基礎——IC工藝

1、 最能描述集成電路工藝技術水平的技術指標是(B) A、晶片直徑 B、特征尺寸 C、芯片面積 D、封裝 2、 相同工藝條件下,下列哪種邏輯的組合邏輯延遲最長(A) A、2輸入異或門 B、2輸入與非門 C、2輸入或門 D、1輸入反相器 3、對於90nm制程芯片,合法的電壓 ...

Thu Sep 10 19:05:00 CST 2020 0 619
數字IC設計需要哪些工藝庫?如何換工藝

工藝的時候數字IC設計需要哪些工藝庫: Synopsys文件夾(DC和ICC使用) Synopsys文件夾中含有.lib 和.db文件是此工藝的時間模型 a) DC綜合第一部分的目標庫和鏈接庫 b) 內容闡述: Logiclibrary 是半導體工藝 ...

Fri Dec 27 19:31:00 CST 2019 0 1990
工藝時,IC設計數字工藝庫文件是如何對應的?

最近工作涉及到換工藝的事情,之前建好的環境需要對應替換。兩家給到的文件順序大致相同但並不完全一致,作為一個小白,生怕搞錯了對應文件,承擔責任。所以在學會了一些皮毛之后 ,特地來總結和大家分享,歡迎查缺補漏。 同行交友加微信:814477611 Synopsys文件夾(DC和ICC使用 ...

Thu Dec 26 01:48:00 CST 2019 0 1496
陶瓷電容的結構、工藝失效模式

陶瓷電容 MLCC 陶瓷電容的結構、工藝失效模式 ​​1 結構 MLCC呈長方體結構,由兩邊端子電極和內部電極組成。 1.1 端子電極結構    底層  銅Cu或Ag/AgPd鍍層用於連接, AgPd含量高可以防硫化 ...

Wed Jul 17 21:35:00 CST 2019 0 421
CMOS

CMOS主要的功能為記錄主板上面的重要參數,包括系統時間、CPU電壓與頻率、各項設備的I/O位址,因此主板上面才有電池。 ...

Sat Aug 21 17:50:00 CST 2021 0 109
功率器件封裝失效分析及工藝優化研究

本篇是摘自佛山市藍箭電子股份有限公司的陳逸晞同志。   封裝工藝是為了提升電子設備運行的可靠性,采取的相應保護措施,即針對可能發生的力學、化學或者環境等不確定因素的攻擊,利用封裝技術和特殊材料對電子設備進行保護。封裝技術已經廣泛應用於航空航天設備、汽車、計算機以及移動通信設備等諸多領域 ...

Thu Nov 04 06:40:00 CST 2021 0 1138
從數字IC后端設計實現看先進工藝7nm實現的各種挑戰

目前雖然號稱擁有或將要研發7nm工藝的有多家工藝廠商,但是具有實際流片能力的可能只有TSMC和三星。隨着GlobalFoundries最近宣布放棄7nm的進一步研發,以及盡管Intel的10nm和這幾家的7nm差不多一個水准,但是要跳票到2019年,因此短期內應該就是雙雄爭霸的局面。 玩家 ...

Wed Apr 01 18:20:00 CST 2020 0 896
 
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