光學濾光片與鍍膜
什么是減反射（Anti-reflective)
減反射（AR，anti-reflective），就是減少反射光，反光少了，說明透過的光多了，所以減反射又叫增透。
下面的圖中，做過減反射處理的（右），只反射了2%的光，也就是說它的透過率是98%。
增透膜（Anti-reflective coating，AR）是一種表面光學鍍層，通過減少光的反射而增加透過率。在復雜的光學系統中，可以通過減少系統中的散射光來提高對比度，例如望遠鏡，這對天文學十分重要。增透膜能減少暗處雙筒望遠鏡的閃光。
很多塗層都包括折射率不同的透明的薄膜結構thin film structures with alternating layers of contrasting. 薄膜的厚度決定了其作用的反射光波長。當光線在增透膜上產生二次反射時，會和原反射光發生干涉，從而減弱反射光。而根據能量守恆，光的能量不變。當反射光減少時，透射光便增多。這就是增透膜的原理。選擇增透膜時需確定波長，如紅外線，可見光以及紫外線。
沒有鍍膜的眼鏡鏡片（上方）比鍍上增透模的眼鏡鏡片反射更多光波。特別注意到鍍膜的眼鏡鏡片的反射帶有些許顏色。
濾光片
濾光片產品主要按光譜波段、光譜特性、膜層材料、應用特點等方式分類。
光譜波段：紫外濾光片、可見濾光片、紅外濾光片；
光譜特性：帶通濾光片、截止濾光片、分光濾光片、中性密度濾光片、反射濾光片；
膜層材料：軟膜濾光片、硬膜濾光片；
硬膜濾光片不僅指薄膜硬度方面，更重要的是它的激光損傷閾值，所以它廣泛應用於激光系統當中，面軟膜濾光片則主要用於生化分析儀當中。
帶通型： 選定波段的光通過，通帶以外的光截止。其光學指標主要是中心波長（CWL），半帶寬（FWHM)。分為窄帶和寬帶。比如窄帶808濾光片NBF-808。
短波通型(又叫低波通)：短於選定波長的光通過，長於該波長的光截止。 比如紅外截止濾光片，IBG-650。
長波通型(又叫高波通)：長於選定波長的光通過，短於該波長的光截止 比如紅外透過濾光片，IPG-800。
濾光片鍍膜
蒸發沉積
在蒸發沉積時，真空室中的源材料受到加熱或電子束轟擊而蒸發。蒸氣冷凝在光學表面上。在蒸發期間，通過控制加熱，真空壓力，基板定位和旋轉可以制造出具有特定厚度的均勻光學鍍膜。 蒸發具有相對溫和的性質，會使鍍膜變得松散或多孔。 這種松散的鍍膜具有吸水性，改變了膜層的有效折射率，將導致性能降低。通過離子束輔助沉積技術可以增強蒸發鍍膜，在該過程中，離子束會對准基片表面。這增加了源材料相對光學表面的粘附性，產生更多應力，使得鍍膜更致密，更耐久。
離子束濺射（IBS）
在離子束濺射（IBS）時，高能電場可以加速離子束。 這種加速度使得離子具有顯着的動能。在與源材料撞擊時，離子束會將靶材的原子“濺射”出來。 這些被濺射出來的靶材離子（原子受電離區影響變為離子）也具有動能，會在與光學表面接觸時產生致密的膜。 IBS是一種的，重復性強的技術。
等離子體濺射
等離子體濺射是一系列技術的總稱，例如等離子體濺射和磁控管濺射。不管是哪種技術，都包括等離子體的產生。等離子體中的離子經加速射入源材料中，撞擊松散的能量源離子，然后濺射到目標光學元件上。 雖然不同類型的等離子體濺射具有其獨特的性質和優缺點，不過可以將這些技術集合在一起，因為具有共同的工作原理，差異，相比這種鍍膜技術與本文中涉及的其它鍍膜技術之間的差異小得多。
原子層沉積
與蒸發沉積不同，用於原子層沉積（ALD）的源材料不需要從固體中蒸發出來，而是直接以氣體的形式存在。 盡管該技術使用的是氣體，真空室中仍然需要很高的溫度。 在ALD過程中，氣相前驅體通過非重疊式的脈沖進行傳遞，且脈沖具有自限制性。 這種工藝擁有獨特的化學性設計，每個脈沖只粘附一層，並且對光學件表面的幾何形狀沒有特殊要求。 因此這種工藝使得可以高度的對鍍層厚度和設計進行控制，但是會降低沉積的速率。
鍍膜工藝
不同的鍍膜沉積技術，具有各自的優缺點。光學可以采用不同的鍍膜沉積技術為服務。
在很小的硅襯底上，出現了薄膜顏色的變化，有時很嚴重（多種顏色），有時兩種顏色，有顏色的梯度，什么原因啊？
顏色變化是由於薄膜厚度不均勻導致不同程度的光干涉引起的。這種不均勻是purge不充分造成的，或者是precursor通多了。應該考慮一下硅片清洗的干凈不干凈。機器沒有改動的話程序和劑量都是固定的。每次都是在相同的地方出現厚度的差異，感覺像是有一個通多了啊，tdeah這種源你們都是怎么設置的啊，比如溫度，pulse和purge時間。都是根據系統得計算的，沒有系統圖和參數，明顯已經出了可估測的范文。
ALD的一大驗收指標就是膜厚均一性（5英寸的Si上）。
首先膜厚大概有多少，再決定用什么儀器去測量膜厚（多點測量）。
ALD做的其它薄膜，也出現了局部的不均勻現象比如只有半環狀，或者一部分區域有薄膜的現象。
現代微處理器內的晶體管非常微小，晶體管中的一些關鍵薄膜層甚至只有幾個原子的厚度，光是英文句點的大小就夠容納一百萬個晶體管還綽綽有余。ALD 是使這些極細微結構越來越普遍的一種技術。
ALD 工藝直接在芯片表面堆積材料，一次沉積單層薄膜幾分之一的厚度，以盡可能生成最薄、最均勻的薄膜。工藝的自限特性以及共形沉積的相關能力，是其成為微縮與 3D 技術推動因素的基礎。自限式表面反應讓原子級沉積控制成為可能：薄膜厚度僅取決於執行的反應周期數。表面控制會使薄膜保持極佳的共形性和均勻厚度，這兩點是新興 3D 器件設計的必備特性。
ar玻璃
1）可見光透過率最高峰值99%可見光平均透過率超過95%，
2） 平均反射率低於4%，最低值小於0.5%
3）色彩更艷麗、對比更強使圖像色彩對比更強烈，景物更清晰。
4）抗紫外線，有效保護眼睛紫外線光譜區透過率大幅降低，可有效阻絕紫外線對眼睛之傷害
5） 耐高溫AR玻璃耐溫>500度(一般壓克力只能耐溫80度)
6）防刮耐磨性最佳AR玻璃膜層硬度與玻璃相當,大於7H，（一般PC板硬度約為2H至3H）。
7）可耐各種清潔劑清洗耐酸、鹼清洗劑之擦拭，膜層不受損壞。
8）抗沖擊性強3mm厚度玻璃的沖擊性能相當於6mm壓克力。
9）保持視角一般壓克力在安裝后，視角會變小；而AR玻璃裝上后，視角不會變小。
10）外觀AR玻璃表面平整度遠遠優於鍍膜壓克力，並且尺寸越大，相差越明顯。
11）AR玻璃冷熱變形幾乎可以省略不計，適用於各類環境；同時，AR玻璃具有琉璃感，外觀更漂亮。
比超白透光率還高的ar玻璃
普通的白玻透光率一般在82-83%左右。
超白玻璃透光率一般在89-91%，個別廠家生產的超白玻璃透過率甚至可以達到92%。
AR玻璃的透不率達到了95%，甚至有的AR玻璃可見光透過率最高峰值達到了99%。