數字電路基本門的工作原理


半導體

什么是半導體

半導體(semiconductor)

  半導體指常溫下導電性能介於導體與絕緣體之間的材料。

硅元素

高純的單晶硅是重要的半導體材料。在單晶硅中摻入微量的第IIIA族元素,形成p型硅半導體;摻入微量的第VA族元素,形成n型和p型半導體結合在一起,就可以完成輻射能電能相互轉化的裝置。

摻雜

摻雜是在硅中加入一些元素形成空穴或自由電子的過程。

N型硅(Negative)

 

如果在硅中加入P元素,P和Si形成共價鍵而P的第五個價電子沒有被共價鍵束縛,在原子周圍游盪。

如果一個電壓加到Si-P混合物,這個電子將會受到電場力穿過摻雜的硅片向電勢高的地方移動。

P型硅(Positive)

 

如果在硅片中加入B元素,那么B和Si結合形成共價鍵,而B只有3個價電子,所以會形成空穴。

如果在這種晶片上施加電壓,那么相鄰電子在受到電場力的作用下來補上空穴,使得空穴向電勢低的方向移動。

二極管

PN結二極管的工作原理

 

 

正向偏置

  當二極管的P極連接到一個電池的正極,N連接到該電池的負極,此時N型區的電子和P型區的空穴受到電場作用向PN結推進,電子與空穴結合,電流通過二極管。

反向偏置

  當二極管的P極連接到一個電池的負極,N連接到該電池的正極,此時N型區的電子和P型區的空穴受到電場作用向兩端分離,阻隔電流通過二極管。

雙極型晶體管

雙極型晶體管是三端器件,可以用做開關或放大器。

雙極型晶體管的工作原理

 

 

 

 

 

 

 以NPN型晶體管為例:

  當在C端施加一個正向電壓,E極接地后,由於受到電場作用,C端N型硅的負電子向C端聚集,中間的P型硅的空穴向E端聚集,此時中間形成一個激發電場,和原電場大小相等方向相反,互相抵消,所以E端N型硅的電子不會受到電場作用(圖左所示)。

   此時若在BE極施加一個正向電壓(至少0.6v),額外的電場將會使得E極N型硅的電子向P型硅聚集,越過空穴,形成電流(圖左所示)。

MOS晶體管實現基本門

 

 

nMOS晶體管的工作原理

當在Gate端施加電壓VDD時,受到電場的作用,在兩個N型硅的中間聚集了許多電子,形成了一個有自由電子的通道Channel,此時在Source和drain施加電壓,電子便在Channel的輔助下形成電流。

PMOS晶體管的工作原理

和nMOS工作機制正好對稱,pMOS的Substrate的電壓為VDD,此時Channel部分形成空穴管道,在Source和drain兩端的電勢差作用下,形成電流。

CMOS非門

 

 CMOS與非門

 

 CMOS或非門

 

CMOS傳送門

 

 

 其他的基本門根據布爾代數運算符的完備性可以用NOT和NAND或NOT和NOR電路組合來實現。

參考資料

[1] 數字設計和計算機體系結構 2ed

[2] Practical Electronics for Inventors 5ed

 


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