現代集成電路的制造工藝越來越先進，但是在生產過程中的制造缺陷也越來越難以控制，甚至一顆小小的 PM2.5 就可能導致芯片報廢，為了能有效的檢測出生產中出現的廢片，需要用到掃描鏈測試（scan chai ...

在 multi-voltage design 中，常常用到isolation cell，本文簡單介紹什么是 iso cell， 何時需要加 iso cell，以及如何使用 iso cell 1. 什 ...

在 20nm 以下的工藝中，由於相鄰 metal wire 的間距太小，使得光刻過程中，相鄰的光線間距過小，相互之間發生干涉，導致 metal wire 邊緣模糊，出現瑕疵。 為了解決這個問題，先進 ...

1. 關於 data preparation ： 　　report_ref_libs ： report reference library 　　report_lib lib_aa ： repor ...

在 multi-voltage design 中，當涉及到多個power supply 時，需要 upf 文件來描述power細節，現將 upf 中的基本概念和使用方法記錄如下： upf 中的基本概 ...

　　什么是 FET？ 　　FET 的全名是“場效電晶體（Field Effect Transistor，FET）”，先從大家較耳熟能詳的“MOS”來說明。MOS 的全名是“金屬－氧化物－半導體場效電 ...

1. ICC2 - GUI 常用快捷鍵 按鍵 F7：顯示或隱藏底部 Console 選項卡 按鍵 F8：顯示或隱藏 View Settings 選項卡 按鍵 F2：顯示 lay ...

1. 列出當前design 用到的 db 庫： list_libs 2. 列出當前design 用到的 reference 庫： report_mw_lib -mw_referenc_libra ...

1. CTS 時會將 ICG cell 作為 implicit nostop pin 處理，直接穿透，以 ICG cell 后面的 sink 點作為真正的 sink 來長 tree 2. CTS 時 ...