EUV光刻機市場與技術
EUV光刻機市場與技術 EUV光刻機市場 EUV光刻機已經成為芯片制造的支柱，台積電和三星等晶圓廠這幾年不斷追逐5nm和3nm等先進工藝，本身就是EUV光刻機采購大戶，再加上現在這幾大晶圓廠紛紛擴產建廠，無疑又加大了對EUV光刻機的需求。 除了晶圓廠等邏輯廠商之外，存儲廠商也逐漸來到光刻 ...
原文：EUV極紫外光刻技術
EUV極紫外光刻技術 極紫外光 波長為 . nm 的極紫外 EUV 光刻系統的最新發展，以取代 i 光刻。為了應對多圖案成本上升的趨勢，EUV 系統在曝光吞吐量 每小時晶圓數 ，曝光強度和系統正常運行時間方面已達到生產狀態。 如上圖所示，業界正在積極開展研發工作，以發布第二代 EUV 系統。該系統將在透鏡路徑中加入更高的數值孔徑 NA . ，從而實現更精細的間距分辨率，並再次重新校准 EUV 多重 ...
2021-07-24 06:07 0 396 推薦指數：
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