原子層沉積技術
原子層沉積技術 原子層沉積技術 原子層沉積，ALD 是一種適合於研制最新的和前沿性的產品的薄膜制備技術。原子層沉積 ALD 也是一種用於納米技術研究的有效方法。典型的原子層沉積應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。針對目前的市場需要，Beneq 通過提供具有創新性 ...
原文：薄膜封裝，等離子體技術，原子層沉積，化學氣相沉積
薄膜封裝，等離子體技術，原子層沉積，化學氣相沉積 薄膜封裝 薄膜封裝概念 薄膜真空沉積的一個很重要的技術應用就是薄膜封裝。人們對薄膜封裝最簡單的認識就是日常生活中最常見的保鮮膜，水氧滲透率大約是 g m day。先進薄膜封裝，通過真空沉積一層或多層厚度在納米或微米尺度的薄膜，大幅減少本體與外界環境之間的物質交換，達到保護本體或外界環境的功能，一般來說水氧滲透率小於 . g m day。 化學沉積， ...
2021-05-17 05:59 0 2351 推薦指數：
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