版圖專利的優勢：
高新企業申請時，企業所持有的專利是最為重要的考慮因素。目前國家對於知識產權的分類分為兩種，Ⅰ類和Ⅱ類。
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Ⅰ類包括發明專利（含國防專利）、植物新品種、國家級農作物品種、國家新葯、國家一級中葯保護品種、集成電路布圖設計專有權；
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Ⅱ類包括實用新型專利、外觀設計專利(非簡單改變產品圖案和形狀的外觀設計)、軟件著作權（按Ⅱ類評價的知識產權在申請高新技術企業時，僅限使用一次。）
對於芯片設計企業來說，只要項目完成，就會有版圖，版圖是項目的最終結果。有鑒於此，版圖是所有芯片企業最直接的申請專利的方式，有產品就有版圖。
風險
目前版圖專利與發明專利享受同等待遇，不過考慮到有一定的泄密風險，企業需要謹慎評估。鑒於現在版圖拍照技術如此發達，如果競爭對手真的有意於了解版圖，而且產品已經上市，那么也不是太難的事情。
申請范例
將設計好的芯片版圖或者IP版圖，按照每一層進行分層歸檔，需要注意的是，對每一層有一個描述，以便審批人了解每一層的作用。
以下是一個版圖專利的范例，僅供參考。
