【转】http://www.naura.com/index.php/innovate/news_art/1185.html 1. Plasma：广泛应用而又复杂的物理过程 等离子体刻蚀在集成 ...

转自北方华创官网：http://www.naura.com/index.php/innovate/news_art/1186.html 本文介绍了脉冲等离子体技术在干法刻蚀领域的应用背景，从半导体制 ...

1、阻抗匹配的作用　　 　　高能量射频源被用于等离子体沉积和光刻过程中。在不同的生产过程中，等离子体室阻抗的变化十分复杂。为了提高集成电路品质,需要在工作期间保证等离子体均匀稳定。而有关实验证明，系 ...

摘自《等离子体放电原理与材料处理》1.3.1 摘自《等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用》2.3.1 ...

以下摘自《CO2激光驱动锡靶产生极紫外光源的实验研究》 一、EUV简介 　　在下一代光刻机光源的候选名单中，最受大家关注的是，离子体辐射极紫外光(EUV: extreme ultraviolet ...

摘自《真空镀膜技术》--张以忱 一、直流放电的特性 1、暗光放电（A点-B点）：开始给阴极施加负电压-->放电电流密度较小，仅为10^-16到10^-14(A/cm2) 2 ...