原文:EUV极紫外光刻技术

EUV极紫外光刻技术 极紫外光 波长为 . nm 的极紫外 EUV 光刻系统的最新发展,以取代 i 光刻。为了应对多图案成本上升的趋势,EUV 系统在曝光吞吐量 每小时晶圆数 ,曝光强度和系统正常运行时间方面已达到生产状态。 如上图所示,业界正在积极开展研发工作,以发布第二代 EUV 系统。该系统将在透镜路径中加入更高的数值孔径 NA . ,从而实现更精细的间距分辨率,并再次重新校准 EUV 多重 ...

2021-07-24 06:07 0 396 推荐指数:

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EUV光刻机市场与技术

EUV光刻机市场与技术 EUV光刻机市场 EUV光刻机已经成为芯片制造的支柱,台积电和三星等晶圆厂这几年不断追逐5nm和3nm等先进工艺,本身就是EUV光刻机采购大户,再加上现在这几大晶圆厂纷纷扩产建厂,无疑又加大了对EUV光刻机的需求。 除了晶圆厂等逻辑厂商之外,存储厂商也逐渐来到光刻 ...

Sun Jul 18 15:26:00 CST 2021 0 429
光刻技术发展

光刻技术发展 光刻机作用 光刻机(英文“Mask Aligner”) ,又名掩模对准曝光机,芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。芯片的制造流程极其复杂,可以概括为几大步骤:硅片的制备-->外延工艺-->热氧化-->扩散掺杂-->离子注入-->薄膜制备-->光刻 ...

Sun Jun 13 14:54:00 CST 2021 0 3767
光刻技术领地

光刻技术领地 上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。 SMEE致力于以极致服务 ...

Fri May 14 14:13:00 CST 2021 0 292
光刻技术解析

光刻技术解析 利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用,类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是电路图和其他电子元件 ...

Mon Jul 13 18:16:00 CST 2020 2 1363
光刻技术解析

光刻技术解析 利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用,类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是电路图和其他电子元件 ...

Sat Jun 06 00:02:00 CST 2020 0 1724
[IC]Lithograph(1)光刻技术分析与展望

文章主体转载自: 1.zol摩尔定律全靠它 CPU光刻技术分析与展望 2.wiki:Extreme ultraviolet lithography 3.ITRS 2012 1. 光刻技术组成和关键点 ● 光刻技术的组成与关键点   光刻的基本原理是利用光致抗蚀剂(或称光刻胶)感光后 ...

Tue Nov 05 21:16:00 CST 2013 0 3346
台积电5nm光刻技术

节点,并使用EUV紫外光刻技术扩展到10多个光刻层,与7纳米相比减少了生产总步骤。 关键数字 如 ...

Wed Mar 17 14:02:00 CST 2021 0 309
等离子体技术【十六】--EUV激光器

以下摘自《CO2激光驱动锡靶产生极紫外光源的实验研究》 一、EUV简介   在下一代光刻机光源的候选名单中,最受大家关注的是,离子体辐射极紫外光(EUV: extreme ultraviolet),极紫外光刻技术能够使特征尺寸小到50nm以内。   某些靶材的等离子体辐射出EUV ...

Thu Jul 29 18:54:00 CST 2021 0 133
 
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