【转】等离子体技术【一】--脉冲技术
转自北方华创官网：http://www.naura.com/index.php/innovate/news_art/1186.html 本文介绍了脉冲等离子体技术在干法刻蚀领域的应用背景，从半导体制程工艺需求层面讲述了纳米量级的刻蚀制程对等离子体参数的需求。重点对脉冲等离子体工作机制、脉冲匹配 ...
原文：【转】等离子体技术【二】--刻蚀方式分类
转 http: www.naura.com index.php innovate news art .html .Plasma：广泛应用而又复杂的物理过程 等离子体刻蚀在集成电路制造中已有 余年的发展历程，自 年代引入用于去胶， 年代成为集成电路领域成熟的刻蚀技术。刻蚀采用的等离子体源常见的有容性耦合等离子体 CCP capacitively coupled plasma 感应耦合等离子体ICP ...
2021-07-09 15:33 0 452 推荐指数：
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