ALD和CVD晶体管薄膜技术
ALD和CVD晶体管薄膜技术 现代微处理器内的晶体管非常微小，晶体管中的一些关键薄膜层甚至只有几个原子的厚度，光是英文句点的大小就够容纳一百万个晶体管还绰绰有余。ALD 是使这些极细微结构越来越普遍的一种技术。 ALD 工艺直接在芯片表面堆积材料，一次沉积单层薄膜几分之一的厚度，以尽可能生成 ...
原文：CVD-ALD前驱体材料
CVD ALD前驱体材料 ALD前驱体源瓶特点是什么 ALD前驱体源瓶 起泡器 用于固态 液态及气态超纯物料类的封装，涉及微正压 常压 中低压的危险化学品，对源瓶的安全性和洁净度提出严苛的要求。 ALD前驱体源瓶特点： 所有管件采用 L不锈钢，内部经 目机械抛光和电化学抛光，Ra . 微米 阀门有美国世伟洛克球阀和隔膜阀 日本富士金隔膜阀和韩国TK隔膜阀供选择 密封垫片选用纯银镀镍垫片 氦质谱检测 ...
2021-05-11 06:04 0 2601 推荐指数：
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