光刻技术发展
光刻技术发展 光刻机作用 光刻机（英文“Mask Aligner”) ，又名掩模对准曝光机，芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。芯片的制造流程极其复杂，可以概括为几大步骤：硅片的制备-->外延工艺-->热氧化-->扩散掺杂-->离子注入-->薄膜制备-->光刻 ...
原文：快照（Snapshot）技术发展综述
快照 Snapshot 技术发展综述 刘爱贵 摘要：传统数据备份技术存在备份窗口 恢复时间目标RTO和恢复时间点RPO过长的问题，无法满足企业关键性业务的数据保护需求，因此产生了数据快照技术。本文对快照技术的概念 特点 实现技术和发展现状进行了概括性阐述，并对其未来的发展进行了展望。 关键词：快照，备份，复制，镜像，写时复制，指针重映射 作者简介：刘爱贵，研究方向为网络存储 数据挖掘和分布式计算 ...
2016-04-28 21:55 0 1642 推荐指数：
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