原文:台積電5nm光刻技術

台積電 nm光刻技術 在IEEE IEDM會議上,台積電發表了一篇論文,概述了其 nm工藝的初步成果。對於目前使用N 或N P工藝的客戶來說,下一步將會采用此工藝,因為這兩種工藝共享了一些設計規則。新的 nm制程使用了台積電的第五代FinFET技術,在 納米基礎上提供一個完整的工藝節點,並使用EUV極紫外光刻技術擴展到 多個光刻層,與 納米相比減少了生產總步驟。 關鍵數字 如果只是來了解關鍵數字的 ...

2021-03-17 06:02 0 309 推薦指數:

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