光刻技術發展
光刻技術發展 光刻機作用 光刻機（英文“Mask Aligner”) ，又名掩模對准曝光機，芯片制造流程中光刻工藝的核心設備。芯片的制造流程極其復雜，可以概括為幾大步驟：硅片的制備-->外延工藝-->熱氧化-->擴散摻雜-->離子注入-->薄膜制備-->光刻 ...
原文：快照（Snapshot）技術發展綜述
快照 Snapshot 技術發展綜述 劉愛貴 摘要：傳統數據備份技術存在備份窗口 恢復時間目標RTO和恢復時間點RPO過長的問題，無法滿足企業關鍵性業務的數據保護需求，因此產生了數據快照技術。本文對快照技術的概念 特點 實現技術和發展現狀進行了概括性闡述，並對其未來的發展進行了展望。 關鍵詞：快照，備份，復制，鏡像，寫時復制，指針重映射 作者簡介：劉愛貴，研究方向為網絡存儲 數據挖掘和分布式計算 ...
2016-04-28 21:55 0 1642 推薦指數：
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