现代集成电路的制造工艺越来越先进，但是在生产过程中的制造缺陷也越来越难以控制，甚至一颗小小的 PM2.5 就可能导致芯片报废，为了能有效的检测出生产中出现的废片，需要用到扫描链测试（scan chai ...

在 multi-voltage design 中，常常用到isolation cell，本文简单介绍什么是 iso cell， 何时需要加 iso cell，以及如何使用 iso cell 1. 什 ...

在 20nm 以下的工艺中，由于相邻 metal wire 的间距太小，使得光刻过程中，相邻的光线间距过小，相互之间发生干涉，导致 metal wire 边缘模糊，出现瑕疵。 为了解决这个问题，先进 ...

1. 关于 data preparation ： 　　report_ref_libs ： report reference library 　　report_lib lib_aa ： repor ...

在 multi-voltage design 中，当涉及到多个power supply 时，需要 upf 文件来描述power细节，现将 upf 中的基本概念和使用方法记录如下： upf 中的基本概 ...

　　什么是 FET？ 　　FET 的全名是“场效电晶体（Field Effect Transistor，FET）”，先从大家较耳熟能详的“MOS”来说明。MOS 的全名是“金属－氧化物－半导体场效电 ...

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1. 列出当前design 用到的 db 库： list_libs 2. 列出当前design 用到的 reference 库： report_mw_lib -mw_referenc_libra ...

1. CTS 时会将 ICG cell 作为 implicit nostop pin 处理，直接穿透，以 ICG cell 后面的 sink 点作为真正的 sink 来长 tree 2. CTS 时 ...