原子层沉积技术
原子层沉积技术 原子层沉积技术 原子层沉积，ALD 是一种适合于研制最新的和前沿性的产品的薄膜制备技术。原子层沉积 ALD 也是一种用于纳米技术研究的有效方法。典型的原子层沉积应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。针对目前的市场需要，Beneq 通过提供具有创新性 ...
原文：薄膜封装，等离子体技术，原子层沉积，化学气相沉积
薄膜封装，等离子体技术，原子层沉积，化学气相沉积 薄膜封装 薄膜封装概念 薄膜真空沉积的一个很重要的技术应用就是薄膜封装。人们对薄膜封装最简单的认识就是日常生活中最常见的保鲜膜，水氧渗透率大约是 g m day。先进薄膜封装，通过真空沉积一层或多层厚度在纳米或微米尺度的薄膜，大幅减少本体与外界环境之间的物质交换，达到保护本体或外界环境的功能，一般来说水氧渗透率小于 . g m day。 化学沉积， ...
2021-05-17 05:59 0 2351 推荐指数：
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