原文:台积电5nm光刻技术

台积电 nm光刻技术 在IEEE IEDM会议上,台积电发表了一篇论文,概述了其 nm工艺的初步成果。对于目前使用N 或N P工艺的客户来说,下一步将会采用此工艺,因为这两种工艺共享了一些设计规则。新的 nm制程使用了台积电的第五代FinFET技术,在 纳米基础上提供一个完整的工艺节点,并使用EUV极紫外光刻技术扩展到 多个光刻层,与 纳米相比减少了生产总步骤。 关键数字 如果只是来了解关键数字的 ...

2021-03-17 06:02 0 309 推荐指数:

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