光刻機技術解析 利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用，類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件 ...

光刻機技術領地 上海微電子裝備(集團)股份有限公司(簡稱SMEE)主要致力於半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發、設計、制造、銷售及技術服務。公司設備廣泛應用於集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領域。 SMEE致力於以極致服務 ...

EUV光刻機市場與技術 EUV光刻機市場 EUV光刻機已經成為芯片制造的支柱，台積電和三星等晶圓廠這幾年不斷追逐5nm和3nm等先進工藝，本身就是EUV光刻機采購大戶，再加上現在這幾大晶圓廠紛紛擴產建廠，無疑又加大了對EUV光刻機的需求。 除了晶圓廠等邏輯廠商之外，存儲廠商也逐漸來到光刻機 ...

本文轉載自微信公眾號 - 半導體行業觀察 , https://mp.weixin.qq.com/s/Rb-FWbFocAZmdUDokSz4dg ...

光刻機與芯片制造 中芯國際風險量產7nm，國產光刻機也傳來捷報 芯片禁令實施之后，中國國內半導體領域發展迎來了黃金時期，各大企業不斷加大研發投入，就是希望能夠在這個關鍵時刻取得一定的突破，改變目前中國在芯片領域之中所面臨的困境。 國產芯片的未來有相關數據顯示，在去年一年之間，半導體企業就已經 ...

ASML光刻機PK 原子彈，難度？ 一. 物理世界和網絡世界的交匯點：光刻機 光刻機的技術有多高級，看看這個知乎提問，可以感受一下： 有人這樣形容光刻機：這是一種集合了數學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟件、圖像識別領域頂尖技術 ...

光刻技術發展 光刻機作用 光刻機（英文“Mask Aligner”) ，又名掩模對准曝光機，芯片制造流程中光刻工藝的核心設備。芯片的制造流程極其復雜，可以概括為幾大步驟：硅片的制備-->外延工藝-->熱氧化-->擴散摻雜-->離子注入-->薄膜制備-->光刻 ...

EUV極紫外光刻技術 （1）極紫外光 波長為 13.5nm 的極紫外 (EUV) 光刻系統的最新發展，以取代 193i 光刻。為了應對多圖案成本上升的趨勢，EUV 系統在曝光吞吐量（每小時晶圓數），曝光強度和系統正常運行時間方面已達到生產狀態。 如上圖所示，業界正在積極開展研發 ...