光刻機技術解析 利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發生性質變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用,類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是電路圖和其他電子元件 ...
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2019-02-28 16:32 0 1084 推薦指數:
光刻機技術解析 利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發生性質變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用,類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是電路圖和其他電子元件 ...
光刻機技術解析 利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發生性質變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用,類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是電路圖和其他電子元件 ...
光刻機技術領地 上海微電子裝備(集團)股份有限公司(簡稱SMEE)主要致力於半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發、設計、制造、銷售及技術服務。公司設備廣泛應用於集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領域。 SMEE致力於以極致服務 ...
光刻機與芯片制造 中芯國際風險量產7nm,國產光刻機也傳來捷報 芯片禁令實施之后,中國國內半導體領域發展迎來了黃金時期,各大企業不斷加大研發投入,就是希望能夠在這個關鍵時刻取得一定的突破,改變目前中國在芯片領域之中所面臨的困境。 國產芯片的未來有相關數據顯示,在去年一年之間,半導體企業就已經 ...
EUV光刻機市場與技術 EUV光刻機市場 EUV光刻機已經成為芯片制造的支柱,台積電和三星等晶圓廠這幾年不斷追逐5nm和3nm等先進工藝,本身就是EUV光刻機采購大戶,再加上現在這幾大晶圓廠紛紛擴產建廠,無疑又加大了對EUV光刻機的需求。 除了晶圓廠等邏輯廠商之外,存儲廠商也逐漸來到光刻機 ...
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自身之外的數據?可以通過預言機(Oracle):當合約需要某個鏈外的數據時,它去找預言機要,預言機就去鏈下獲 ...
摘要:本文將介紹備機重建各種方法的實現機制,並結合應用場景分析,以及對新增參數的使用建議,以期獲得最佳應用效果。 本文分享自華為雲社區《先碼再看,一文介紹備機重建各種方法的實現機制》,原文作者:Victor_NK 。 1 需求介紹 GaussDB(DWS)的實例在運行過程中難免發生 ...