原文:原子层沉积(ALD)和化学气相沉积(CVD)微电子制造铜金属化的研究进展

原子层沉积 ALD 和化学气相沉积 CVD 微电子制造铜金属化的研究进展 Atomic Layer Deposition ALD and Chemical Vapor Deposition CVD of Copper based Metallization for Microelectronic Fabrication ...

2021-05-15 06:22 0 1090 推荐指数:

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薄膜封装,等离子体技术,原子层沉积化学沉积

薄膜封装,等离子体技术,原子层沉积化学沉积 薄膜封装 薄膜封装概念 薄膜真空沉积的一个很重要的技术应用就是薄膜封装。人们对薄膜封装最简单的认识就是日常生活中最常见的保鲜膜,水氧渗透率大约是1-10 g/m2/day。先进薄膜封装,通过真空沉积一层或多层厚度在纳米或微米尺度的薄膜,大幅 ...

Mon May 17 13:59:00 CST 2021 0 2351
原子层沉积技术

原子层沉积技术 原子层沉积技术 原子层沉积ALD 是一种适合于研制最新的和前沿性的产品的薄膜制备技术。原子层沉积 ALD 也是一种用于纳米技术研究的有效方法。典型的原子层沉积应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。针对目前的市场需要,Beneq 通过提供具有创新性 ...

Tue May 11 14:13:00 CST 2021 0 2468
Atomic Layer Deposition原子层沉积技术

Atomic Layer Deposition原子层沉积技术 原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术。可以沉积均匀一致,厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深 ...

Fri Jun 11 13:56:00 CST 2021 0 2109
CVDALD薄膜沉积技术应用领域

CVDALD薄膜沉积技术应用领域 显示 用于OLED、QD-OLED、甚至未来QLED的薄膜封装,通过有机/无机叠层结构的保护,水汽渗透率WVTR可降至10-5g/m2/day,保证OLED或者量子点发光材料的稳定。另外量子点光学膜QDEF也需要WVTR小于0.1的阻隔膜,保护量子点不受水氧 ...

Mon May 17 14:22:00 CST 2021 0 1651
Qt个人研究进展

1:纯socket通信实现多线程邮件发送,支持多个收件人和附件,通用任何平台,包括ARM。2:纯串口通信AT命令实现多线程短信收发,支持多个收件人和长短信,通用任何平台,包括ARM。3:纯串口通信PO ...

Thu May 18 23:24:00 CST 2017 3 966
金属化孔与非金属化

安装孔有时为了接地会使用金属化孔,那是怎么画出来的呢. 说是孔,其实是使用通孔焊盘画出来的... 点击焊盘,焊盘设计小于孔径,焊盘大小可以设置为0*0。设置孔径就可以了,比如说3mm. plated的意思是镀金的,就是是否有... 3D效果: 这里面 ...

Fri Jun 12 18:59:00 CST 2020 0 1622
综述|工业金属平面材料表面缺陷自动视觉检测的研究进展

摘要   基于计算机视觉的金属材料表面缺陷检测是冶金工业领域的研究热点。在金属制造行业中,高标准的平面质量要求自动视觉检查系统及其算法的性能必须不断提高。本文基于对钢,铝,铜板和带钢的一些典型金属平面材料产品的160多种出版物的综述,试图对二维和三维表面缺陷检测技术进行全面的综述。根据算法的属性 ...

Tue Oct 19 19:23:00 CST 2021 0 153
Paper Reading:个性推荐系统的研究进展

论文:个性推荐系统的研究进展 发表时间:2009 发表作者:刘建国,周涛,汪秉宏 论文链接:论文链接 本文发表在2009,对经典个性推荐算法做了基本的介绍,是非常好的一篇中文推荐系统方面的文章。 个性推荐系统通过建立用户与信息产品之间的二元关系 , 利用已有的选择过程或相似性关系挖掘每个 ...

Mon Oct 21 03:25:00 CST 2019 0 333
 
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