光刻机技术解析 利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件 ...

光刻机技术领地 上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。 SMEE致力于以极致服务 ...

EUV光刻机市场与技术 EUV光刻机市场 EUV光刻机已经成为芯片制造的支柱，台积电和三星等晶圆厂这几年不断追逐5nm和3nm等先进工艺，本身就是EUV光刻机采购大户，再加上现在这几大晶圆厂纷纷扩产建厂，无疑又加大了对EUV光刻机的需求。 除了晶圆厂等逻辑厂商之外，存储厂商也逐渐来到光刻机 ...

本文转载自微信公众号 - 半导体行业观察 , https://mp.weixin.qq.com/s/Rb-FWbFocAZmdUDokSz4dg ...

光刻机与芯片制造 中芯国际风险量产7nm，国产光刻机也传来捷报 芯片禁令实施之后，中国国内半导体领域发展迎来了黄金时期，各大企业不断加大研发投入，就是希望能够在这个关键时刻取得一定的突破，改变目前中国在芯片领域之中所面临的困境。 国产芯片的未来有相关数据显示，在去年一年之间，半导体企业就已经 ...

ASML光刻机PK 原子弹，难度？ 一. 物理世界和网络世界的交汇点：光刻机 光刻机的技术有多高级，看看这个知乎提问，可以感受一下： 有人这样形容光刻机：这是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术 ...

光刻技术发展 光刻机作用 光刻机（英文“Mask Aligner”) ，又名掩模对准曝光机，芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。芯片的制造流程极其复杂，可以概括为几大步骤：硅片的制备-->外延工艺-->热氧化-->扩散掺杂-->离子注入-->薄膜制备-->光刻 ...

EUV极紫外光刻技术 （1）极紫外光 波长为 13.5nm 的极紫外 (EUV) 光刻系统的最新发展，以取代 193i 光刻。为了应对多图案成本上升的趋势，EUV 系统在曝光吞吐量（每小时晶圆数），曝光强度和系统正常运行时间方面已达到生产状态。 如上图所示，业界正在积极开展研发 ...